高真空磁控溅射仪报价高真空磁控溅射仪报价(可喷镁,铝,金银铂) 型号:KM1-SD-650MH库号:M403191
原理: 溅射镀膜的原理是稀薄气体在 异常辉光放电产生的等离子体在电 场的作用下,对阴极靶材表面进行轰 击,把靶材表面的分子、原子、离子 及电子等溅射出来,被溅射出来的粒 子带有一定的动能,沿一定的方向射 向基体表面,在基体表面形成镀层。 溅射时产生的快电子在正交的电磁 场中作近似摆线运动,增加了电子行 程,提高了气体的离化率,同时高能 量粒子与气体碰撞后失去能量,基体 温度较低,在不耐温材料上可以完成 镀膜。 用途: KM1-SD-650MH 高真空磁控溅射镀膜仪是袖珍型磁控溅射 设备,主要由溅射真空室、磁控溅射靶、样品台、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测 量及电控系统等部分组成。高真空溅射可用于金属、半导体、绝缘体等多种薄膜材料的 制备,且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点,可用于大专、科研 院所的薄膜材料研究、制备。 参数: 仪器主机尺寸: 长 610mm×宽 420mm×高 220mm(注:含腔体总高 490mm) 工作腔室尺寸: 标配:玻璃腔体(高度可选):直径 260mm×高 200mm(外尺寸) 直径 240mm×高 200mm(内尺寸) 选配:金属腔体:直径 260mm×高 270mm(外尺寸 ) 直径 210mm×高 270mm(内尺寸) 靶头: 标配:单靶 选配:双靶(双靶仪器主机尺寸和工作腔体尺寸会随之增大) 靶材尺寸: 直径 50mm×厚 3mm(因靶材材质不同厚度有所不同) 靶材料: 标配一块直径 50mm×3mm 的铜靶(可选配多种靶材) 靶枪冷却方式: 水冷 真空系统: 抗冲击涡轮分子泵,抽速为 300L/s 前级机械泵: 抽速为 4L/s,带防返油电磁阀及油污过滤器 真空测量: 采用复合真空计监测真空真空度: 5×10 -5Pa(10 分钟可到 9×10 -4Pa) 电源: 标配:直流恒流电源:输入电压:220V 输出电压:0-600v 输出电流:0-1.6A 选配:射频功率电源:功率 1000W,配射频匹配器。 载样台: 直径 200mm,可根据客户需求定制载样台。 工作气体: Ar 等惰性气体(需自备气瓶及减压阀) 气路: 溅射真空度手动调整(可选配气体质量流量计) 水冷: 自循环冷却水机 电源电压: 220V 50Hz 启动功率 3KW
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